半導(dǎo)體晶圓紫外線（UV）臭氧清洗設(shè)備

更新時(shí)間：2024-09-23

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半導(dǎo)體晶圓紫外線（UV）臭氧清洗設(shè)備

波長(zhǎng)	185納米、254納米
目的	清潔/修改
行業(yè)	半導(dǎo)體制造
待安裝設(shè)備	半導(dǎo)體清洗設(shè)備

UV照射設(shè)備用于清洗半導(dǎo)體晶圓。紫外線照射會(huì)產(chǎn)生臭氧，去除晶圓表面的有機(jī)物。半導(dǎo)體晶圓紫外臭氧清洗設(shè)備可用于原型/開發(fā)和批量生產(chǎn)。原型機(jī)和開發(fā)機(jī)是半自動(dòng)的，生產(chǎn)能力低，而量產(chǎn)機(jī)是自動(dòng)化機(jī)。

UV照射設(shè)備采用185nm和254nm汞燈作為光源。當(dāng)185nm紫外線被氧氣吸收時(shí)，產(chǎn)生臭氧（O3）并產(chǎn)生活性氧。

技術(shù)文件《審查半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的紫外線照射設(shè)備以實(shí)現(xiàn)成本降低》

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更換晶圓周邊曝光光源，成本降低30%以上

目的
接觸
行業(yè)
半導(dǎo)體制造
設(shè)備
涂布機(jī)開發(fā)商
波長(zhǎng)
365nm
任務(wù)
初始成本和運(yùn)行成本降低

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